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异丁烯结构式图片,异丁烯结构式怎么写 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月(yuè异丁烯结构式图片,异丁烯结构式怎么写)24日消息,国家(jiā)知识产权局局(jú)长申长雨在新闻发(fā)布会(huì)上表示,将统筹推(tuī)进各类知识(shí)产权法(fǎ)律(lǜ)法规和制度规则的(de)制修(xiū)订工(gōng)作。其中,修改完善集成电路布图设计保护(hù)条例,适应大规模集(jí)成(chéng)电路发展需要,助力芯片产业做大做强,服务数(shù)字经(jīng)济(jì)更好发展。

  加强大(dà)数(shù)据、人工智能、基因技术等新领域新业态(tài)知识产(chǎn)权(quán)规则(zé)研究,助力相关领域创(chuàng)新发(fā)展。同时,积极参与知识产权(quán)国际规则制定,更好对(duì)接高标准国际经贸规则(zé),助力高水平对外(wài)开放。

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